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ICP-OES电感耦合等离子体原子发射光谱仪

产品特点

    1.   分析流程全自动化控制,实现软件点火、气路智能控制功能;

    2.   输出功率自动匹配调谐,功率参数程序设定;       

    3.   优良的光学系统,先进的控制系统,保证峰位定位准确,信背比优良;

    4.   极小的基体效应;       

    5.   测量范围宽,超微量到常量的分析,动态线性范围5—6个数量级;

    6.   检出限低,大多数元素的检出限可达ppb级;

    7.   良好的测量精度,稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%(5ppm),优于国家A级标准(JJG768-2005);

    8.   Rf输出功率的范围750-1500W,输出功率稳定性小于0.1%;

    9.   光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内独立可调,可根据不同元素的不同谱线单独设置条件,和全谱仪器比较有更好的检出限;

    10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全;

    11. 高精度的光室恒温系统,保证仪器优良的长短期精度;

    12. 多通道蠕动泵进样,保证仪器进样均匀,工作稳定;

    13. 使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃,在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m(JJG768-2005规定小于10V/m)。

    14. 具有较高的谱线分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线,能分出铁的四重峰。

    15. 人性化的软件设计,操作方便,终身免费升级。功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中,进行数据处理,方法编制和结果分析,是真正的多任务工作软件;该软件数据处理功能强大,提供了多种方法,如内标校正、IECS和QC监测功能等,可获得准确的背景扣除点以消除干扰;对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。


    产品介绍

    钢研纳克ICP光谱仪源于钢铁研究总院,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位,最懂ICP应用的国产ICP光谱仪制造商。央企品牌,上市公司,品质之选!欢迎来电洽谈. 

    Plasma 1000 单道扫描ICP光谱分析仪介绍

    应用领域

    可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工业、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。

     


    • 技术参数
    • 订购信息
    • 附加信息
    • 价格咨询

    1.   光路形式:Czerny-Turner型  

    2.   光室恒温:(33±0.2)℃       

    3.   光栅类型:离子刻蚀全息平面光栅  

    4.   分辨率:不大于0.007nm   

    5.   刻线密度:3600g/mm            

    6.   高频发生器震荡频率:40.68MHz   功率稳定度:0.1%(长期25℃典型值)  

    7.   震荡类型:自激式         

    8.   进样方式:蠕动泵进样 配有多种雾室(旋流雾室、双筒雾室和耐氢氟酸雾室)

    9.   雾化器:同心雾化器

    10. 重复性:RSD ≤1.0% 

    11. 稳定性:RSD ≤2.0%(2小时)

    12. 冷却气:10-20L/min

    13. 辅助气:0-1.5 L/min

    14. 载气:0.4-1L/min

    15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(长×宽×高)

    16. 重量:240公斤


    售后服务承诺

    免费上门安装:是

    保修期:1年

    是否可延长保修期:是

    保内维修承诺:免费上门维修

    报修承诺:48小时到达客户现场

    免费仪器保养:保修期外回访时免费保养

    免费培训:工厂免费提供人员操作培训,食宿自理。


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